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Thèse CIFRE – Simulation 3D de procédés de gravure par plasma réactif M/F


Vacancy details

General information

Reference

2020-5033  

Job level

20 - Professional First Level

Position description

Posting title

Thèse CIFRE – Simulation 3D de procédés de gravure par plasma réactif M/F

Regular/Temporary

Temporary

Job description

Thèse CIFRE –  Simulation 3D de procédés de gravure par plasma réactif : application à la gravure de microlentilles résine en chimie CF4

Pour les nouvelles générations de capteurs d’image haute résolution, les microlentilles sont un élément essentiel permettant de maximiser la quantité de lumière focalisée au niveau de la cellule photosensible. Ces microlentilles sont obtenues par gravure plasma, en transférant un motif en résine de forme semi-sphérique dans un matériau substrat, ici de résine. Le principal défi lors du développement d’un tel procédé est de contrôler la forme finale de la microlentille dans les 3 dimensions, ce qui peut être assisté par une modélisation du plasma et de la gravure, objet de cette thèse.

Le travail consistera à utiliser une plateforme de simulation plasma afin d’implémenter un modèle de gravure 3D décrivant l’évolution du profil de microlentilles résine dans un plasma carbo-fluoré (CF4). Ce travail sera réalisé à l’aide d’un code fluide bidimensionnel capable de simuler le transport et la cinétique des espèces au sein des plasmas réactifs basse pression. La géométrie du réacteur sera d’abord modélisée afin d’étudier les plasmas de gravure utilisés et déterminer les flux et énergies des espèces réactives (ions, radicaux) bombardant le substrat en fonction des conditions opératoires (chimie, puissance RF, pression, etc.). Ces informations seront ensuite couplées à un module de chimie de surface / Monte Carlo afin de modéliser l'évolution du profil de gravure de la microlentille dans ce même réacteur.

La modélisation du plasma couplée à la simulation des profils de gravure vous permettra de comprendre les mécanismes de transfert des motifs et d’identifier les paramètres plasma optimisant la forme finale des microlentilles. Les résultats de vos simulations seront ensuite testés sur produit dans la salle blanche de STMicroelectronics à Crolles. Ces deux aspects de l’étude vous amèneront à dresser une corrélation entre modélisation et résultats expérimentaux, afin de proposer des solutions industrielles.

La thèse se déroulera sur le site de STMicroelectronics à Crolles (10%) et au Laboratoire des Technologies de la Micro-électronique (LTM – CNRS), sur le site du CEA Grenoble (90%).

 

Profile

Etudes: BAC + 5

Compétences:

- Physique des plasmas ou physique des matériaux

- Modélisation et simulation informatique

- Autonomie, curiosité, rigueur et organisation, travail en équipe
 

Position localisation

Job location

Europe, France, Crolles

Candidate criteria

Education level required

5 - Master degree

Experience level required

Less than 2 years

Languages

  • French (3- Advanced)
  • English (2- Business fluent)

Requester

Desired start date

02/11/2020


Offer__2020-5033_These CIFRE – Simulation 3D de procedes de gravure par plasma reactif M/F